Пінка для вмивання з екстрактом центели SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam
Є в наявності

Пінка для вмивання з екстрактом центели SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam

Код товару 495
₴ 0,00₴ 790,00
Бренд
Обʼєм
Група товару
Тип шкіри
Призначення
ОписПодробиці та характеристикиПрикріплені файли
Пінка для вмивання SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam м’яко, але ретельно очищує шкіру від забруднень, надлишку себуму та залишків макіяжу, не залишаючи відчуття сухості чи стягнутості. Підходить для щоденного очищення, зокрема чутливої шкіри.
Збалансована формула з pH 5 утворює густу кремову піну, допомагає підтримувати природний баланс вологи, заспокоює шкіру та делікатно видаляє ороговілі клітини.
Дія пінки:— очищує шкіру від забруднень, себуму та залишків макіяжу;— не пересушує та не провокує відчуття стягнутості;— заспокоює подразнену й чутливу шкіру;— підтримує оптимальний рівень зволоження;— м’яко відлущує ороговілі клітини;— залишає шкіру чистою, свіжою та комфортною.
Активні компоненти:Екстракт центели азіатської — заспокоює подразнення, пришвидшує регенерацію та зміцнює бар’єр шкіри.Бетаїн — утримує вологу в шкірі, роблячи її м’якою та еластичною.Гіалуронова кислота — інтенсивно зволожує та захищає від пересушування.Екстракт какао — містить антиоксиданти, покращує мікроциркуляцію.Лимонна кислота — м’яко вирівнює текстуру шкіри та покращує сяйво.
Країна
Корея
Спосіб використання
Нанесіть на вологі долоні. Після утворення піни ніжно масажуйте обличчя круговими рухами. Змийте засіб теплою водою.
Склад
Water, Sodium Cocoyl Isethionate, Glycerin, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Coco-Betaine, Centella Asiatica Extract, Potassium Cocoyl Glycinate, 1,2-Hexanediol, Potassium Cocoate, Potassium Benzoate, Polyquaternium-67, Citric Acid, Sodium Chloride, Butylene Glycol, Dextrin, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Disodium EDTA, Sodium Acetate, Sodium Bicarbonate, Coptis Chinensis Root Extract, Sodium Hyaluronate, Coccinia Indica Fruit Extract, Eclipta Prostrata Extract.